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  1. 原著論文

Macroscopic electron-hole distribution in silicon and cubic silicon carbide by the intense laser pulse

https://repo.qst.go.jp/records/77632
https://repo.qst.go.jp/records/77632
a289fd7f-a8bf-4f23-bb54-9960adc28119
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2019-08-14
タイトル
タイトル Macroscopic electron-hole distribution in silicon and cubic silicon carbide by the intense laser pulse
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
著者 Otobe, Tomohito

× Otobe, Tomohito

WEKO 1004687

Otobe, Tomohito

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Tomohito, Otobe

× Tomohito, Otobe

WEKO 1004688

en Tomohito, Otobe

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Electron excitations at silicon and 3C-SiC surfaces caused by an intense femtosecond laser pulse can be calculated by solving the time-dependent density functional theory and the Maxwell's equation simultaneously.
The energy absorption, carrier density, and electron-hole quasi-temperatures decrease exponentially in 100 nm from the surface.
The electron and hole quasi-temperatures have finite values even at large distances from the surface because of a specific photo-absorption channel.
Although the quasi-temperature in the silicone shows smooth exponential decrease, 3C-SiC shows stepwise decrease because of the change of concerning bands.
The quasi-temperature depends not only on the excitation process, i.e., tunnel and multi-photon absorption, but also on the band structure significantly.
書誌情報 Journal of Applied Physics

巻 126, 号 20, p. 203101-1-203101-7, 発行日 2019-11
出版者
出版者 AIP publishing
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0021-8979
DOI
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.1063/1.5124424
関連サイト
識別子タイプ URI
関連識別子 https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5124424
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Ver.1 2023-05-15 17:27:29.388902
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