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  1. 学会発表・講演等
  2. ポスター発表

耐放射線イメージセンサに向けたSOI-Si/4H-SiC 画素集積化プロセス

https://repo.qst.go.jp/records/76938
https://repo.qst.go.jp/records/76938
0ee87f46-2d71-4640-a83a-000e6c77c2ec
Item type 会議発表用資料 / Presentation(1)
公開日 2019-09-26
タイトル
タイトル 耐放射線イメージセンサに向けたSOI-Si/4H-SiC 画素集積化プロセス
タイトル
タイトル SOI-Si/4H-SiC pixel array fabrication process for radiation hardened image sensors
言語 en
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f
資源タイプ conference object
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
著者 目黒, 達也

× 目黒, 達也

WEKO 786861

目黒, 達也

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長谷部, 史明

× 長谷部, 史明

WEKO 786862

長谷部, 史明

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武山, 昭憲

× 武山, 昭憲

WEKO 786863

武山, 昭憲

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大島, 武

× 大島, 武

WEKO 786864

大島, 武

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田中, 保宣

× 田中, 保宣

WEKO 786865

田中, 保宣

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黒木, 伸一郎

× 黒木, 伸一郎

WEKO 786866

黒木, 伸一郎

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Takeyama, Akinori

× Takeyama, Akinori

WEKO 786867

en Takeyama, Akinori

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Ohshima, Takeshi

× Ohshima, Takeshi

WEKO 786868

en Ohshima, Takeshi

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 原子力発電所の安全な廃炉プロセス実行のため、耐放射線性の可視光応答型カメラの実現が求められている。現在、一般的に用いられている4H型炭化ケイ素(4H-SiC)は耐放射線性に優れるが、可視光を吸収できない。そこで、駆動部である金属-酸化膜-半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)をSiCで、受光部は、放射線耐性はやや劣るが可視光に応答するシリコン(Si)フォトダイオードで作製し、これらを集積化するプロセスを設計した。さらにこのプロセスで64画素(8x8)の可視光応型イメージセンサを試作し、室温でガンマ線照射を行った。2.2 MGy照射後もイメージセンサの動作特性は未照射とほぼ変わらず、今回設計したプロセスにより、数MGy耐性を有する可視光応答型イメージセンサの製作が可能であることを実証した。
会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等)
内容記述タイプ Other
内容記述 第80回応用物理学会秋季学術講演会
発表年月日
日付 2019-09-19
日付タイプ Issued
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Ver.1 2023-05-15 18:43:26.626465
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