WEKO3
アイテム
Percolation Model of the Stochastic Effect of EUV Resists
https://repo.qst.go.jp/records/72874
https://repo.qst.go.jp/records/72874581d54cd-ac21-4fac-9ce4-3427aa7e1c4e
| Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2018-07-25 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Percolation Model of the Stochastic Effect of EUV Resists | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
| 資源タイプ | conference object | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | metadata only access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
| 著者 |
佐々木, 明
× 佐々木, 明× 石野, 雅彦× 錦野, 将元× 佐々木 明× 石野 雅彦× 錦野 将元 |
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| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | EUVリソグラフィにおいて問題とされているレジスト上の露光パターンの粗さに対するストキャスティクスの効果について、パーコレーションモデルによる解析を試みた。高感度、高解像度の材料として期待される金属ナノ粒子を用いたネガ型レジストを想定したシミュレーションを行い、パターンの形成に閾値があることや、なめらかなパターンを得るためには閾値の3倍程度の照射強度が必要であることを示す結果を得た。 | |||||
| 会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等） | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 2018 EUVL workshop | |||||
| 発表年月日 | ||||||
| 日付 | 2018-06-13 | |||||
| 日付タイプ | Issued | |||||
