@misc{oai:repo.qst.go.jp:00072874,
 author = {佐々木, 明 and 石野, 雅彦 and 錦野, 将元 and 佐々木 明 and 石野 雅彦 and 錦野 将元},
 month = {Jun},
 note = {EUVリソグラフィにおいて問題とされているレジスト上の露光パターンの粗さに対するストキャスティクスの効果について、パーコレーションモデルによる解析を試みた。高感度、高解像度の材料として期待される金属ナノ粒子を用いたネガ型レジストを想定したシミュレーションを行い、パターンの形成に閾値があることや、なめらかなパターンを得るためには閾値の3倍程度の照射強度が必要であることを示す結果を得た。, 2018 EUVL workshop},
 title = {Percolation Model of the Stochastic Effect of EUV Resists},
 year = {2018}
}