WEKO3
アイテム
イオン注入によるβ型酸化ガリウム中の p 型ドーパント探索
https://repo.qst.go.jp/records/84097
https://repo.qst.go.jp/records/84097a440036f-21ae-4bf2-a401-e072166566cd
Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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公開日 | 2021-12-03 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | イオン注入によるβ型酸化ガリウム中の p 型ドーパント探索 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
資源タイプ | conference object | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | metadata only access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
著者 |
三木一司
× 三木一司× 前川, 雅樹× 河裾, 厚男× 飯村隆介× 三木隼之介× 宮本将伸× 嶋津亮× 唐佳藝× 山腰茂伸× 佐々木公平× 倉又朗× Masaki, Maekawa× Atsuo, Kawasuso |
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抄録 | ||||||
内容記述タイプ | Abstract | |||||
内容記述 | 低炭素化社会実現のため、機器制御用パワーデバイスの性能向上による省エネルギー化が求められている。酸化ガリウムは次々世代材料として期待される材料であるが、デバイス作成に必須となるp型ドーパントが未発見である。我々はZn,、Ba、Srのイオン注入によりp型作成を試みている。本報告ではこのうちBaについて現状報告を行う。β-Ga2O3基板に対し、加速エネルギー50keV~370keVの多重照射を行い表面から深さ15-75nmの領域にBaを打ち込んだ。800℃~1100℃の範囲で窒素雰囲気中で30分アニールを行った。1000℃までのアニールでは、アニール温度の上昇に伴い有効ドナー濃度が増加した。これは、基板内の残留Siが電気的に活性化しているためだと考えられる。一方、1100℃アニールでは有効キャリア濃度の減少が見られた。これはBaがアクセプタ化しキャリア補償を起したためと考えられ、p型形成を期待させたが、SIMS測定ではBa濃度の減少が見られており、Baがキャリア補償した為では無いようである。何れにせよ、1100℃における活性化にはBa濃度を減少させない方法を見出す必要であるとの問題点を提示できるところまで来た。今後はこれらの問題点を解決しながらp型酸化ガリウムの作成を目指す。 | |||||
会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | QST 高崎サイエンスフェスタ 2021 | |||||
発表年月日 | ||||||
日付 | 2021-12-07 | |||||
日付タイプ | Issued |