WEKO3
アイテム
EUVレジストの露光、現像過程における統計的効果のシミュレーションモデル解析
https://repo.qst.go.jp/records/76171
https://repo.qst.go.jp/records/76171b379c04d-dc53-4b8e-8603-da12ef8b15c2
| Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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| 公開日 | 2019-07-01 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | EUVレジストの露光、現像過程における統計的効果のシミュレーションモデル解析 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
| 資源タイプ | conference object | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | metadata only access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
| 著者 |
佐々木, 明
× 佐々木, 明× 石野, 雅彦× 錦野, 将元× Sasaki, Akira× Ishino, Masahiko× Nishikino, Masaharu |
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| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | EUVリソグラフィ技術の実用化、高度化のために必要な、高い感度、解像度、低いラフネス（露光イメージの粗さ）を実現するレジスト技術の基礎研究として、パーコレーション モデルとDLA（Diffusion Limit Aggregation）モデルを組み合わせ、レジストの露光、現像過程のシミュレーションを行った。照射線量や、パターンのピッチがラフネスに与える影響の評価を試みた結果を報告する。 | |||||
| 会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等） | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | NGLワークショップ2019 | |||||
| 発表年月日 | ||||||
| 日付 | 2019-07-04 | |||||
| 日付タイプ | Issued | |||||
