@misc{oai:repo.qst.go.jp:00076171,
 author = {佐々木, 明 and 石野, 雅彦 and 錦野, 将元 and Sasaki, Akira and Ishino, Masahiko and Nishikino, Masaharu},
 month = {Jul},
 note = {EUVリソグラフィ技術の実用化、高度化のために必要な、高い感度、解像度、低いラフネス（露光イメージの粗さ）を実現するレジスト技術の基礎研究として、パーコレーション モデルとDLA（Diffusion Limit Aggregation）モデルを組み合わせ、レジストの露光、現像過程のシミュレーションを行った。照射線量や、パターンのピッチがラフネスに与える影響の評価を試みた結果を報告する。, NGLワークショップ2019},
 title = {EUVレジストの露光、現像過程における統計的効果のシミュレーションモデル解析},
 year = {2019}
}