WEKO3
アイテム
VUV waveform characterization by reflectivity depletion in laser ablation of Si
https://repo.qst.go.jp/records/76033
https://repo.qst.go.jp/records/7603315ca8313-c9dc-402b-83b4-1a7bc9a821ac
| Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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| 公開日 | 2019-06-04 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | VUV waveform characterization by reflectivity depletion in laser ablation of Si | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
| 資源タイプ | conference object | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | metadata only access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
| 著者 |
板倉, 隆二
× 板倉, 隆二× 赤木, 浩× 乙部, 智仁× Itakura, Ryuuji× Akagi, Hiroshi× Otobe, Tomohito |
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| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | 極短パルスレーザーをシリコンに集光することによってレーザーアブレーションを起こし、波長132 nm の真空紫外プローブパルスの時間分解反射スペクトルを測定した。アブレーションによる反射スペクトルの減衰に対してFROG解析行い、真空紫外パルスのパルス幅を 16 fs と決定し、スペクトル位相も決定した。 | |||||
| 会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等） | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | OPTO2019 | |||||
| 発表年月日 | ||||||
| 日付 | 2019-06-12 | |||||
| 日付タイプ | Issued | |||||
