WEKO3
アイテム
溶媒アニーリングによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー
https://repo.qst.go.jp/records/74817
https://repo.qst.go.jp/records/748178824023e-b35e-4872-a895-709ca059a162
| Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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| 公開日 | 2019-03-18 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 溶媒アニーリングによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
| 資源タイプ | conference object | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | metadata only access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
| 著者 |
長谷川, 伸
× 長谷川, 伸× 廣木, 章博× 吉村, 公男× ザオ, ユエ× 大和田, 謙二× 町田, 晃彦× 綿貫, 徹× 前川, 康成× Hasegawa, Shin× Hiroki, Akihiro× Yoshimura, Kimio× Zhao, Yue× Owada, Kenji× Machida, Akihiko× Watanuki, Tetsu× Maekawa, Yasunari |
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| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | 放射線グラフト重合は、高分子基材の性質を保持したまま、新たな機能を付与できるのが特徴である。高温での使用が想定される高分子機能性膜の作製には、耐熱性や機械特性に優れたポリエーテルエーテルケトン(PEEK)は、有望な基材膜となる。これまでの研究から、PEEK 基材膜を前処理：ジビニルベンゼン (DVB) 熱重合することにより、放射線グラフト重合が加速することが分かっている[1]。本研究では、DVB, ジオキサン(DOX) 及びDVB/DOX = 50/50 vol%混合溶液で前処理したPEEK 基材にスチレンスルホン酸エチル (ETSS)をグラフト重合し、前処理前後でのPEEK の結晶化度とモルフォロジー変化を調べ、DVB 前処理によるグラフト重合の加速効果のメカニズム解明を試みた。 | |||||
| 会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等） | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | QST高崎サイエンスフェスタ2018 | |||||
| 発表年月日 | ||||||
| 日付 | 2018-12-12 | |||||
| 日付タイプ | Issued | |||||
