@misc{oai:repo.qst.go.jp:00074817,
 author = {長谷川, 伸 and 廣木, 章博 and 吉村, 公男 and ザオ, ユエ and 大和田, 謙二 and 町田, 晃彦 and 綿貫, 徹 and 前川, 康成 and Hasegawa, Shin and Hiroki, Akihiro and Yoshimura, Kimio and Zhao, Yue and Owada, Kenji and Machida, Akihiko and Watanuki, Tetsu and Maekawa, Yasunari},
 month = {Dec},
 note = {放射線グラフト重合は、高分子基材の性質を保持したまま、新たな機能を付与できるのが特徴である。高温での使用が想定される高分子機能性膜の作製には、耐熱性や機械特性に優れたポリエーテルエーテルケトン(PEEK)は、有望な基材膜となる。これまでの研究から、PEEK 基材膜を前処理：ジビニルベンゼン (DVB) 熱重合することにより、放射線グラフト重合が加速することが分かっている[1]。本研究では、DVB, ジオキサン(DOX) 及びDVB/DOX = 50/50 vol%混合溶液で前処理したPEEK 基材にスチレンスルホン酸エチル (ETSS)をグラフト重合し、前処理前後でのPEEK の結晶化度とモルフォロジー変化を調べ、DVB 前処理によるグラフト重合の加速効果のメカニズム解明を試みた。, QST高崎サイエンスフェスタ2018},
 title = {溶媒アニーリングによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー},
 year = {2018}
}