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  1. 学会発表・講演等
  2. ポスター発表

MeV級C60イオンビームの高強度化に向けた負イオン源の開発

https://repo.qst.go.jp/records/73054
https://repo.qst.go.jp/records/73054
56ad7d78-ace3-4587-9363-2f8f74feacd5
Item type 会議発表用資料 / Presentation(1)
公開日 2018-11-27
タイトル
タイトル MeV級C60イオンビームの高強度化に向けた負イオン源の開発
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f
資源タイプ conference object
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
著者 山田, 圭介

× 山田, 圭介

WEKO 719940

山田, 圭介

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千葉, 敦也

× 千葉, 敦也

WEKO 719941

千葉, 敦也

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平野, 貴美

× 平野, 貴美

WEKO 719942

平野, 貴美

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鳴海, 一雅

× 鳴海, 一雅

WEKO 719943

鳴海, 一雅

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齋藤, 勇一

× 齋藤, 勇一

WEKO 719944

齋藤, 勇一

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山田 圭介

× 山田 圭介

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en 山田 圭介

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千葉 敦也

× 千葉 敦也

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en 千葉 敦也

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平野 貴美

× 平野 貴美

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en 平野 貴美

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鳴海 一雅

× 鳴海 一雅

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en 鳴海 一雅

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齋藤 勇一

× 齋藤 勇一

WEKO 719949

en 齋藤 勇一

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 TIARAタンデム加速器を用いたMeV級C60イオンビームの生成では、独自に開発したC60の高い電子親和力を利用する電子付着型負イオン源が用いられている。本イオン源はオーブンで昇華したC60にフィラメントから放出された熱電子を直接付着させることによって負イオンを生成するものであり、得られるビーム強度は100nA程度と従来の手法の数千倍の強度を達成している。マイクロビーム化や高フルエンスを必要とする照射実験には更なるビーム強度が求められるため、電子付着型負イオン源の高強度化を目的とした開発を進めている。本研究では、フィラメントに印加したバイアス電圧を制御することで、C60負イオンビーム強度を増大させることに成功した。本シンポジウムでは、イオン源の構造及び負イオン生成試験の結果について報告する。
会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等)
内容記述タイプ Other
内容記述 第17回放射線プロセスシンポジウム
発表年月日
日付 2018-11-21
日付タイプ Issued
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Ver.1 2023-05-15 19:33:20.737124
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