@misc{oai:repo.qst.go.jp:00073054,
 author = {山田, 圭介 and 千葉, 敦也 and 平野, 貴美 and 鳴海, 一雅 and 齋藤, 勇一 and 山田 圭介 and 千葉 敦也 and 平野 貴美 and 鳴海 一雅 and 齋藤 勇一},
 month = {Nov},
 note = {TIARAタンデム加速器を用いたMeV級C60イオンビームの生成では、独自に開発したC60の高い電子親和力を利用する電子付着型負イオン源が用いられている。本イオン源はオーブンで昇華したC60にフィラメントから放出された熱電子を直接付着させることによって負イオンを生成するものであり、得られるビーム強度は100nA程度と従来の手法の数千倍の強度を達成している。マイクロビーム化や高フルエンスを必要とする照射実験には更なるビーム強度が求められるため、電子付着型負イオン源の高強度化を目的とした開発を進めている。本研究では、フィラメントに印加したバイアス電圧を制御することで、C60負イオンビーム強度を増大させることに成功した。本シンポジウムでは、イオン源の構造及び負イオン生成試験の結果について報告する。, 第17回放射線プロセスシンポジウム},
 title = {MeV級C60イオンビームの高強度化に向けた負イオン源の開発},
 year = {2018}
}