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  1. 学会発表・講演等
  2. ポスター発表

4H-SiC 横型JFET の試作と特性の評価

https://repo.qst.go.jp/records/72727
https://repo.qst.go.jp/records/72727
1774b20e-ffef-4939-9997-9a9ef03e1f1f
Item type 会議発表用資料 / Presentation(1)
公開日 2018-03-24
タイトル
タイトル 4H-SiC 横型JFET の試作と特性の評価
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f
資源タイプ conference object
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
著者 清水, 奎吾

× 清水, 奎吾

WEKO 716321

清水, 奎吾

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田中, 保宣

× 田中, 保宣

WEKO 716322

田中, 保宣

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黒木, 伸一郎

× 黒木, 伸一郎

WEKO 716323

黒木, 伸一郎

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牧野, 高紘

× 牧野, 高紘

WEKO 716324

牧野, 高紘

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武山, 昭憲

× 武山, 昭憲

WEKO 716325

武山, 昭憲

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大島, 武

× 大島, 武

WEKO 716326

大島, 武

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牧野 高紘

× 牧野 高紘

WEKO 716327

en 牧野 高紘

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武山 昭憲

× 武山 昭憲

WEKO 716328

en 武山 昭憲

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大島 武

× 大島 武

WEKO 716329

en 大島 武

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 SiCはパワーデバイスとしてだけではなく、放射線環境のような極限環境においても安定して動作する半導体材料として期待されている。本研究では、燃料デブリ取り出し作業など高線量環境下において動作するイメージセンサ開発のため、特に放射線による特性劣化の影響を受けにくい接合型トランジスタ(JFET)を作製し、その電気的特性の評価を行った。
ゲート深さをWg=0.51µm、0.58µmと変えて作製したJFETのしきい値電圧はそれぞれ-16と-9Vとなり、ゲート深さでしきい値電圧を制御できることがわかった。事前にシミュレーションした結果とは異なり、しきい値電圧が負となりノーマリーオンとなってしまう原因としては、p型基板上に成長させたn層の不純物濃度やゲート深さ等がシミュレーションと実際に試作したデバイスで異なることが原因と考えられる。
会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等)
内容記述タイプ Other
内容記述 先進パワー半導体分科会 第 4 回講演会
発表年月日
日付 2017-11-01
日付タイプ Issued
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Ver.1 2023-05-15 19:36:43.267202
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