WEKO3
アイテム
EUV光源ターゲットのレーザーアブレーションによる粒子発生
https://repo.qst.go.jp/records/66300
https://repo.qst.go.jp/records/66300a52acb4f-99a5-48fd-a66d-83cf05157176
| Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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| 公開日 | 2017-04-26 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | EUV光源ターゲットのレーザーアブレーションによる粒子発生 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
| 資源タイプ | conference object | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | metadata only access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
| 著者 |
佐々木, 明
× 佐々木, 明× 佐々木明× 砂原淳× 西原功修× 西川亘× 佐々木 明 |
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| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | レーザー生成プラズマを用いた次世代半導体リソグラフィ用EUV光源において、Sn液滴ターゲットを短パルスのプリパルスレーザー照射によってSn微粒子が生成する過程を扱う流体シミュレーションコードの開発について報告した。メッシュの動的再配置によって、気相と液相の物質が共存する状態のダイナミクスを扱えるようにしたモデルで、加熱された液滴が沸騰する過程のテスト計算を行った。 | |||||
| 会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等） | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 応用物理学会春季学術講演会 | |||||
| 発表年月日 | ||||||
| 日付 | 2017-03-15 | |||||
| 日付タイプ | Issued | |||||
