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  1. 学会発表・講演等
  2. 口頭発表

水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度

https://repo.qst.go.jp/records/65559
https://repo.qst.go.jp/records/65559
df27c868-fb04-41f9-820f-4e2fe669e21f
Item type 会議発表用資料 / Presentation(1)
公開日 2015-01-08
タイトル
タイトル 水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f
資源タイプ conference object
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
著者 小川, 幸大

× 小川, 幸大

WEKO 645639

小川, 幸大

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松本, 謙一郎

× 松本, 謙一郎

WEKO 645640

松本, 謙一郎

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藤崎, 真吾

× 藤崎, 真吾

WEKO 645641

藤崎, 真吾

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小川 幸大

× 小川 幸大

WEKO 645642

en 小川 幸大

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松本 謙一郎

× 松本 謙一郎

WEKO 645643

en 松本 謙一郎

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 放射線の生物影響を考える上で・OH、O2-、H2O2が重要な役割を演じている。その中で、ヒドロキシルラジカル (・OH) は水の電離を起因として最初に生じる活性酸素種であり、かつ生体内でのラジカル反応の実行役と考えられる。本研究では、水に低LET放射線を照射したときの・OHの生成密度を、 電子常磁性共鳴(EPR)スピントラッピング法を応用して明らかにした。
水溶液中のスピントラッピング剤 (DMPO)の分子密度 (濃度) を増やしたときに、X線もしくはγ線の照射によって生じる、ヒドロキシルラジカルアダクト(DMPO-OH)の生成量の変化を求めた。DMPO-OH濃度はDMPO密度に対して直線的に増加したのち、飽和が見られた。その後、プラトーに達すると思われたが、予測に反し、DMPO分子密度が極めて高いところ (490~1680 mM) で再び原点を通ると思われる直線的な上昇を示した。以上の結果より、低LET放射線によって2種類の・OHの生成、すなわち比較的低密度なDMPOでトラップされる「疎」な生成と、極めて高密度のDMPOでないと検出できないような非常に「密」な生成が示唆された。
会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等)
内容記述タイプ Other
内容記述 第 29 回日本酸化ストレス学会関東支部会
発表年月日
日付 2014-12-20
日付タイプ Issued
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Ver.1 2023-05-15 20:58:45.984702
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