{"created":"2023-05-15T14:47:49.077666+00:00","id":65559,"links":{},"metadata":{"_buckets":{"deposit":"c735f869-c596-49c1-9cd5-25492c498c19"},"_deposit":{"created_by":1,"id":"65559","owners":[1],"pid":{"revision_id":0,"type":"depid","value":"65559"},"status":"published"},"_oai":{"id":"oai:repo.qst.go.jp:00065559","sets":["10:29"]},"author_link":["645640","645642","645639","645641","645643"],"item_10005_date_7":{"attribute_name":"発表年月日","attribute_value_mlt":[{"subitem_date_issued_datetime":"2014-12-20","subitem_date_issued_type":"Issued"}]},"item_10005_description_5":{"attribute_name":"抄録","attribute_value_mlt":[{"subitem_description":"放射線の生物影響を考える上で･OH、O2-、H2O2が重要な役割を演じている。その中で、ヒドロキシルラジカル (･OH) は水の電離を起因として最初に生じる活性酸素種であり、かつ生体内でのラジカル反応の実行役と考えられる。本研究では、水に低LET放射線を照射したときの･OHの生成密度を、 電子常磁性共鳴（EPR）スピントラッピング法を応用して明らかにした。\n水溶液中のスピントラッピング剤 (DMPO)の分子密度 (濃度) を増やしたときに、X線もしくはγ線の照射によって生じる、ヒドロキシルラジカルアダクト（DMPO-OH）の生成量の変化を求めた。DMPO-OH濃度はDMPO密度に対して直線的に増加したのち、飽和が見られた。その後、プラトーに達すると思われたが、予測に反し、DMPO分子密度が極めて高いところ (490～1680 mM) で再び原点を通ると思われる直線的な上昇を示した。以上の結果より、低LET放射線によって2種類の･OHの生成、すなわち比較的低密度なDMPOでトラップされる「疎」な生成と、極めて高密度のDMPOでないと検出できないような非常に「密」な生成が示唆された。","subitem_description_type":"Abstract"}]},"item_10005_description_6":{"attribute_name":"会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等）","attribute_value_mlt":[{"subitem_description":"第 29 回日本酸化ストレス学会関東支部会","subitem_description_type":"Other"}]},"item_access_right":{"attribute_name":"アクセス権","attribute_value_mlt":[{"subitem_access_right":"metadata only access","subitem_access_right_uri":"http://purl.org/coar/access_right/c_14cb"}]},"item_creator":{"attribute_name":"著者","attribute_type":"creator","attribute_value_mlt":[{"creatorNames":[{"creatorName":"小川, 幸大"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"645639","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"松本, 謙一郎"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"645640","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"藤崎, 真吾"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"645641","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"小川 幸大","creatorNameLang":"en"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"645642","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"松本 謙一郎","creatorNameLang":"en"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"645643","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]}]},"item_language":{"attribute_name":"言語","attribute_value_mlt":[{"subitem_language":"jpn"}]},"item_resource_type":{"attribute_name":"資源タイプ","attribute_value_mlt":[{"resourcetype":"conference object","resourceuri":"http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f"}]},"item_title":"水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度","item_titles":{"attribute_name":"タイトル","attribute_value_mlt":[{"subitem_title":"水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度"}]},"item_type_id":"10005","owner":"1","path":["29"],"pubdate":{"attribute_name":"公開日","attribute_value":"2015-01-08"},"publish_date":"2015-01-08","publish_status":"0","recid":"65559","relation_version_is_last":true,"title":["水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度"],"weko_creator_id":"1","weko_shared_id":-1},"updated":"2023-05-15T20:58:45.876312+00:00"}