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  1. 原著論文

窒素イオンで照射された多結晶タングステン表面のX線光電子分光による評価

https://repo.qst.go.jp/records/48468
https://repo.qst.go.jp/records/48468
c97a66ea-3081-4351-9f22-1ef6c85662d0
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2018-02-06
タイトル
タイトル 窒素イオンで照射された多結晶タングステン表面のX線光電子分光による評価
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
著者 上浦, 良友

× 上浦, 良友

WEKO 487273

上浦, 良友

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梅澤, 憲司

× 梅澤, 憲司

WEKO 487274

梅澤, 憲司

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寺岡, 有殿

× 寺岡, 有殿

WEKO 487275

寺岡, 有殿

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吉越, 章隆

× 吉越, 章隆

WEKO 487276

吉越, 章隆

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寺岡 有殿

× 寺岡 有殿

WEKO 487277

en 寺岡 有殿

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 室温の多結晶タングステン結晶表面に窒素原子イオンと窒素分子イオンを2.5keVのエネルギーで照射した。SPring-8で放射光を用いて光電子分光分析した結果、W4f7/2と W4f5/2ピークの半値幅の広がりと、WO3に相当するピークの僅かな増加を観測した。このことは表面酸化膜下での窒化を意味している。窒素イオン照射後のN1s光電子ピークは4つの成分を持っている。これは標準的なタングステン酸窒化物と同じである。主ピークはW-N結合とW-N-O結合に対応する。W-N結合のN1s光電子ピークとW4f光電子ピークの比の深さ依存性から、N2+イオン照射の場合の方がN+イオン照射の場合より、W-N結合の密度が高く、少し深くまで窒素が侵入することが分かった。
書誌情報 日本金属学会誌

巻 81, 号 11, p. 510-515, 発行日 2017-11
出版者
出版者 公益社団法人日本金属学会
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0021-4876
DOI
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.2320/jinstmet.J2017009
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Ver.1 2023-05-15 23:27:44.034267
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