WEKO3
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水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度
https://repo.qst.go.jp/records/65559
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Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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公開日 | 2015-01-08 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 水溶液試料への低LET放射線照射によって生成するヒドロキシルラジカルの分子密度 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
資源タイプ | conference object | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | metadata only access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
著者 |
小川, 幸大
× 小川, 幸大× 松本, 謙一郎× 藤崎, 真吾× 小川 幸大× 松本 謙一郎 |
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抄録 | ||||||
内容記述タイプ | Abstract | |||||
内容記述 | 放射線の生物影響を考える上で・OH、O2-、H2O2が重要な役割を演じている。その中で、ヒドロキシルラジカル (・OH) は水の電離を起因として最初に生じる活性酸素種であり、かつ生体内でのラジカル反応の実行役と考えられる。本研究では、水に低LET放射線を照射したときの・OHの生成密度を、 電子常磁性共鳴(EPR)スピントラッピング法を応用して明らかにした。 水溶液中のスピントラッピング剤 (DMPO)の分子密度 (濃度) を増やしたときに、X線もしくはγ線の照射によって生じる、ヒドロキシルラジカルアダクト(DMPO-OH)の生成量の変化を求めた。DMPO-OH濃度はDMPO密度に対して直線的に増加したのち、飽和が見られた。その後、プラトーに達すると思われたが、予測に反し、DMPO分子密度が極めて高いところ (490~1680 mM) で再び原点を通ると思われる直線的な上昇を示した。以上の結果より、低LET放射線によって2種類の・OHの生成、すなわち比較的低密度なDMPOでトラップされる「疎」な生成と、極めて高密度のDMPOでないと検出できないような非常に「密」な生成が示唆された。 |
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会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 第 29 回日本酸化ストレス学会関東支部会 | |||||
発表年月日 | ||||||
日付 | 2014-12-20 | |||||
日付タイプ | Issued |