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  1. プロシーディングス

Development of soft x-ray laser irradiation beamline for ablation and damage study

https://repo.qst.go.jp/records/74663
https://repo.qst.go.jp/records/74663
dd9f9106-0780-4545-a154-716edd40b20b
Item type 会議発表論文 / Conference Paper(1)
公開日 2019-03-12
タイトル
タイトル Development of soft x-ray laser irradiation beamline for ablation and damage study
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_5794
資源タイプ conference paper
アクセス権
アクセス権 metadata only access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_14cb
著者 石野, 雅彦

× 石野, 雅彦

WEKO 736379

石野, 雅彦

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タンフン, ヂン

× タンフン, ヂン

WEKO 736380

タンフン, ヂン

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長谷川, 登

× 長谷川, 登

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長谷川, 登

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坂上, 和之

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坂上, 和之

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東口, 武史

× 東口, 武史

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東口, 武史

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市丸, 智

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市丸, 智

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畑山, 雅俊

× 畑山, 雅俊

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畑山, 雅俊

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鷲尾, 方一

× 鷲尾, 方一

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鷲尾, 方一

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錦野, 将元

× 錦野, 将元

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錦野, 将元

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Ishino, Masahiko

× Ishino, Masahiko

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en Ishino, Masahiko

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Dinh, Thanhhung

× Dinh, Thanhhung

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Hasegawa, Noboru

× Hasegawa, Noboru

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en Hasegawa, Noboru

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Nishikino, Masaharu

× Nishikino, Masaharu

WEKO 736391

en Nishikino, Masaharu

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 In this paper, we report on development of the soft x-ray laser (SXRL) irradiation system at QST. The SXRL has a wavelength of 13.9 nm, and this laser wavelength is close to the exposure wavelength of 13.5 nm for the extreme ultraviolet (EUV) lithography. The irradiation system has an intensity monitor based on the Mo/Si multilayer beam splitter. This intensity monitor provides the irradiation energy onto sample surface. So it is possible to examine and confirm damage/ablation thresholds of EUV optical elements and doses for sensitivity of resist materials, which have the same specifications of those in the EUV lithography.
書誌情報 Proceedings of SPIE

巻 10905, p. 109051C-1-109051C-5, 発行日 2019-03
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Ver.1 2023-05-15 19:04:20.332026
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