WEKO3
アイテム
抗酸化剤のヒドロキシルラジカル消去能の測定
https://repo.qst.go.jp/records/70720
https://repo.qst.go.jp/records/70720df34c72c-8d1f-4752-83b0-db0518d7a6f1
Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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公開日 | 2012-04-02 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 抗酸化剤のヒドロキシルラジカル消去能の測定 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
資源タイプ | conference object | |||||
アクセス権 | ||||||
アクセス権 | metadata only access | |||||
アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
著者 |
松本, 謙一郎
× 松本, 謙一郎× 中西, 郁夫× 松本 謙一郎× 中西 郁夫 |
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抄録 | ||||||
内容記述タイプ | Abstract | |||||
内容記述 | 【目的】抗酸化剤のヒドロキシルラジカル消去能を評価する方法として、ヒドロキシルラジカル(•OH)の発生系にスピントラップ剤と抗酸化剤を添加して、生成するスピントラップ剤の•OHアダクトの量が抗酸化剤の添加によってどの程度減少するかを見る方法がしばしば用いられる。•OHの発生系としてはフェントン反応や過酸化水素に紫外線を照射する反応がよく用いられているが、これらの発生系を用いた場合には抗酸化剤と鉄との反応、抗酸化剤と過酸化水素との反応、また抗酸化剤による紫外線の吸収などを考慮する必要があり、その評価には充分な注意が必要である。本研究では抗酸化剤の•OH消去能を正しく評価するための方法を提案するため、•OHの発生系として水溶液へのX線照射を用いる方法を検討した。 【方法】15 mMのスピントラップ剤(DMPO)を含む反応溶液(100 mMリン酸緩衝液pH7、0.05 mM DTPAを含む)にX線を照射し、直ちに反応溶液中に生成する•OHアダクト(DMPO-OH)の量をX-band EPRで継時的に10分間測定した。DMPO-OHの減衰を補正し、正味のDMPO-OHの生成量を求めた。次に反応溶液に抗酸化剤を加えた場合についてX線照射後に生成するDMPO-OHをX-band EPRで10分間観察した。正味のDMPO-OHの生成量と抗酸化剤存在下でのDMPO-OHの減衰に基づきX線照射終了直後のDMPO-OH量を予測し、これとDMPO-OHの減衰曲線を外装して求めたX線照射終了直後のDMPO-OH量を比較して•OH消去能を評価した。 【結果と考察】糖類のような比較的大きな広がりを持つ分子は•OHを良く消去した。SDSやゼラチンなども比較的•OH消去能が高かった。比較的小さい分子でもDMSOやカフェインは比較的良く•OHを消去した。本法では•OH消去能を評価するのと同時に、安定ラジカル(DMPO-OH)の還元能も同時に評価することができる。 |
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会議概要(会議名, 開催地, 会期, 主催者等) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 日本薬学会132年会 | |||||
発表年月日 | ||||||
日付 | 2012-03-31 | |||||
日付タイプ | Issued |