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  1. 原著論文

Dependence of Dissolution Kinetics of Main-Chain Scission Type Resists on Molecular

https://repo.qst.go.jp/records/2000507
https://repo.qst.go.jp/records/2000507
12a5c115-dde4-4156-a858-310115a5aabc
アイテムタイプ 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2024-06-07
タイトル
タイトル Dependence of Dissolution Kinetics of Main-Chain Scission Type Resists on Molecular
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 Akihiro konda

× Akihiro konda

Akihiro konda

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Yamamoto Hiroki

× Yamamoto Hiroki

Yamamoto Hiroki

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Shusuke Yoshitake

× Shusuke Yoshitake

Shusuke Yoshitake

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The dissolution kinetics and molecular weight in main-chain scission type resists such as poly(methyl methacrylate) (PMMA) and ZEP520A were investigated using a quartz crystal microbalance (QCM) method and a Gel Permeation Chromatography (GPC) to clarify the effects of the molecular weight after polymer degradation on the dissolution kinetics. G-values of main chain scissions in PMMA and ZEP520A are estimated using GPC measurement. The G-value of ZEP520A showed higher G-values than that of PMMA. There are three molecular weight regions in PMMA, whereas there are only two molecular weight regions in ZEP 520A. The dissolution behavior depends on molecular weight after polymer degradation in both PMMA and ZEP 520A. These results indicate that ZEP520A is better to be better lithographic performance.
書誌情報 Journal of Photopolymer Science and Technology

巻 35, 号 1, p. 1, 発行日 2022-12
出版者
出版者 The Society of Photopolymer Science and Technology
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 1349-6336
DOI
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.2494/photopolymer.35.1
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Ver.1 2025-08-15 02:21:59.785227
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