WEKO3
アイテム
量研・関西研における軟Ｘ線レーザーのビーム強度モニタ技術と偏光制御技術
https://repo.qst.go.jp/records/72811
https://repo.qst.go.jp/records/728118cfb6d05-ef0d-4d8b-b481-36a80ceb5acf
| Item type | 会議発表用資料 / Presentation(1) | |||||
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| 公開日 | 2018-06-04 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 量研・関西研における軟Ｘ線レーザーのビーム強度モニタ技術と偏光制御技術 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f | |||||
| 資源タイプ | conference object | |||||
| アクセス権 | ||||||
| アクセス権 | metadata only access | |||||
| アクセス権URI | http://purl.org/coar/access_right/c_14cb | |||||
| 著者 |
今園, 孝志
× 今園, 孝志× 今園 孝志 |
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| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | 量研・関西研では、波長13.9 nmのピコ秒パルス幅のコヒーレント光源であるレーザー駆動プラズマX線レーザー（XRL）を提供し、その特徴を活用した干渉計測等が行われている。そのビーム強度はショット毎に大きく変動するためビーム強度モニタ技術が不可欠である。当該波長領域ではMo/Si多層膜が高効率な反射鏡として機能することが良く知られている。我々は、Mo/Si多層膜をＸ線フォトダイオードの受光面に直接積層したビーム強度モニタを開発し、XRLをプローブ光とする絶対反射率計測技術を確立するとともに、その応用研究としてMo/Si多層膜偏光子でXRLの偏光状態を制御し、直線偏光度を定量評価できることを明らかにした。また、最近、オーバーコーティングによる回折効率の高効率化を図ったMo回折格子ビーム強度モニタを開発し、それを用いた絶対反射率計測や偏光計測に成功した。講演では、量研・関西研におけるこれらのビーム強度モニタ技術と偏光制御技術について報告する。 | |||||
| 会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等） | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 平成30年度立命館大学SRセンター研究成果報告会 | |||||
| 発表年月日 | ||||||
| 日付 | 2018-06-16 | |||||
| 日付タイプ | Issued | |||||
