@misc{oai:repo.qst.go.jp:00085893,
 author = {Kitamura, Miho and Souma, Seigo and Wakabayashi, Daisuke and Tanaka, Hirokazu and Toyoshima, Akio and Amemiya, Kenta and Asuka Honma and Tappei Kawakami and Sugawara, Katsuaki and Nakayama, Kosuke and Sato, Takafumi and Kumigashira, Hiroshi and Koji, Horiba and Koji, Horiba},
 month = {Mar},
 note = {KEK フォトンファクトリーの可変偏光真空紫外光ビームライン BL-28 においてマイクロ集光 ARPES システムの開発を行った。高精度 ARPES 装置 DA30に Kirkpatrick-Baez (K-B) ミラー集光光学系を組み込むことにより、放射光ビームのマイクロ集光化を行った。Au のパターン試料を用いてスポットサイズの評価を行なった結果、集光サイズとして 10 μm (H) × 12 μm (V)を達成していた。, 14th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation},
 title = {Micro-ARPES system at VUV beamline BL-28 of KEK-PF},
 year = {2022}
}