@misc{oai:repo.qst.go.jp:00085564,
 author = {堀場, 弘司 and 今園, 孝志 and 岩澤, 英明 and 藤井, 健太郎 and 宮脇, 淳 and 大坪, 嘉之 and 中谷, 健 and 安居院, あかね and 木村, 洋昭 and 高橋, 正光 and Koji, Horiba and Takashi, Imazono and Hideaki, Iwasawa and Kentaro, Fujii and Jun, Miyawaki and Yoshiyuki, Ohtsubo and Takeshi, Nakatani and Akane, Agui and Hiroaki, Kimura and Masamitsu, Takahashi},
 month = {Jan},
 note = {軟X線ナノ光電子分光（ARPES）ビームラインは、50–1,000 eVの軟X線を高精度ミラーを用いてナノ集光化し、高効率かつ多自由度のナノ集光ARPES計測を実現することを目指している。本ビームラインでは、高エネルギー分解能と極限集光を両立するためにcPGMを採用し、M1で平行化した放射光をM3振り分け鏡で再度集光して各ブランチビームラインに導く構成となっている。A/Bブランチではナノ集光ARPESステーションとマイクロ集光ARPESステーションを排他的に利用する計画である。講演ではエンドステーションの仕様も含めた最新の検討状況について報告する。, 第35回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム},
 title = {次世代放射光施設 共用ビームライン検討状況II　−軟X線ナノ光電子分光（ARPES）ビームライン−},
 year = {2022}
}