@misc{oai:repo.qst.go.jp:00085303,
 author = {山田, 智子 and 岩瀬 彰宏 and 松井, 利之 and 前川, 雅樹 and 河裾, 厚男 and 堀 史説 and Masaki, Maekawa and Atsuo, Kawasuso},
 month = {Sep},
 note = {金属ナノ粒子はバルク金属とは異なり，結晶の周期性の低さから量子サイズ効果と呼ばれる電子状態に特異な性質を示す場合がある．その性質から金属ナノ粒子は新規機能性材料として注目を浴びている．一般的な固体内ナノ粒子の制御合成方法は 2 つ挙げられる．一つは固体内に不純物を過飽和に固溶添加し，その後熱処理などによって析出させる方法である．もう一つはターゲットとなる固体に直接イオンを注入する方法である．このイオン注入でのナノ粒子が合成される条件はターゲットとイオン種など複雑で統一的な解明はなされていない．中でも特に透明アモルファスガラスにイオンを注入し，照射のみでナノ構造体の形状や構造を精密に制御した例は少なく，さらに複数の元素からなる複合粒子の合成とその構造及び特性制御に関する研究例については極めて少ない．本研究では，イオン注入法で SiO 2 アモルファス内に複数の異なる金属イオンを照射して複合ナノ粒子を合成するための基礎的知見を得ることを目的とし，生成粒子の状態や特性についての調査を行なっている．これまで我々は Ni や Ag イオンを SiO 2 アモルファスに注入することで，熱処理を行わずに照射エネルギーに依存しナノ粒子が形成することを確認し，同じターゲットに二重に Ag と Ni イオンを照射することで複合粒子の合成に成功している．今回，SiO 2 への Ag 及び Ni イオンの照射順序を入れ替えて生成した粒子の微細構造解析を進めており，照射順序による違いとそれぞれの照射順での照射量に対する構造体の変化について解析した.ターゲット材は透明な SiO 2 （アモルファス）を使用し，量子科学技術研究開発機構高崎研究所 TIARA にてイオン堆積深さが等しくなるように Ag，Ni をそれぞれ 380 keV と 200 keV で同一ターゲットに対し，室温で 3x10 16 ?1x10 17  /cm 2 照射した．その際，照射順序を入れ替えて同じ照射を行なった．イオン注入後の試料は紫外可視分光(UV-vis)，微小角 X 線回折(GIXD)などの X 線を使用した微細構造の評価解析を行なった．Ni を先に照射し Ag を後に照射した試料の表面プラズモン吸収（SPR)のピーク位置は照射量によって変化しないのに対し，逆の照射順で生成した複合体の SPR ピーク位置は照射量の増加により短波長側にシフトすることがわかった．この結果から Niを先に照射した試料では照射量の増加によりナノ粒子の構造が変化することなく成長したものに対し，逆の照射順では成長に伴い構造変化していることが考えられる．, 日本金属学会2021年秋期講演大会},
 title = {二重イオン照射による SiO2 内 Ag-Ni 複合粒子合成における 微細構造の照射順序効果},
 year = {2021}
}