@misc{oai:repo.qst.go.jp:00084093,
 author = {阿部, 浩之 and 森本, 亮 and 内田, 裕久 and Hiroshi, Abe},
 month = {Dec},
 note = {水素を吸収（吸蔵）する単体金属としてパラジウム(Pd)がある。近年、水素エネルギー利用が加速度的に進んでおり、これらに利用される水素はより高純度水素が望　　　　　　　　　  望まれている。水素精錬には水素吸蔵材料を利用した水素化膜や水素吸蔵による精錬が有望であり、その材料としてPdが期待されている。しかしながらPd表面から内部への水素吸収のプロセスは侵入速度が遅く、水素吸蔵の速度を速めることはすなわち材料の水素吸蔵性能を大幅に向上させることになり、実用上重要である。表面改質効果をねらいPd表面に対してイオン照射を実施し、水素吸蔵初期反応速度の変化を評価した。その結果、1E17照射量では未照射に比べ、7倍ほど反応速度が向上することがわかり、イオン照射がによる表面改質がパラジウムの水素吸蔵能向上に寄与することがわかった。, QST高崎サイエンスフェスタ2021},
 title = {パラジウムの水素吸蔵能のイオン照射が与える影響について},
 year = {2021}
}