@misc{oai:repo.qst.go.jp:00083002,
 author = {羽多野, 忠 and 小池, 雅人 and ピロジコフ, アレキサンダー and 垣尾, 翼 and 林, 信和 and 笹井, 浩行 and 長野, 哲也 and 寺内, 正己 and Masato, Koike and Pirozhkov, Alexander},
 month = {Sep},
 note = {軟Ｘ線平面結像型発光分光器においては、金属膜上に多層膜をコートすることにより、従来値より小さい入射角に於いて、取り込み光量と回折効率が同時に増大し、分光分析感度を飛躍的に向上させることができる。一方、低入射角化は分散の低下を招き検出器のピクセルサイズで制限される波長分解能が低下するが、刻線密度を大きくすることでこの問題を回避できる見込みがある。そこで前回の報告では、従来の刻線密度2400本/mmと比較して約3割刻線密度が大きい 3200 本/mm のラミナー型回折格子基板を製作し、Au をコートして Fe L 発光（705 eV）領域において得られた回折効率を理論値と比較した。その結果、多層膜を付加する回折格子基板としての使用できることが確かめられた。今回は同様の回折格子基板に低入射角においてFe L 発光領域の回折効率の増大を目的に最適設計した C (6.84 nm)/W (4.56 nm) 3 周期多層膜と C 3.00 nm キャップ層を連続してコートすることとした。回折格子基板として用いた2種類の基板の諸元（rms 粗さ: σ、溝深さ: h、デューティ比 : dc）の実測値はそれぞれ（0.3 nm、5.04 nm、0.47）と（ 1.0 nm、5.77 nm、0.53）である。上記のW/C 多層膜の他、比較のためAuを同一基板面上の一部にコートし、 Photon Factory の BL-11D で回折効率を測定した。回折効率は設計エネルギーの705 eV付近で6.8 %の最大値を取り、報告済みの2400 本/mm W/C多層膜回折格子での実測値 7.1%  と遜色ない結果が得られた。今後、この中心刻線密度を持つ平面結像型不等間隔溝多層膜球面回折格子を製作し、回折効率、結像特性等の評価を行う予定である。, 2021年第82回応用物理学会秋季講演会},
 title = {Fe L 発光対応高刻線密度ラミナー型 W/C 多層膜回折格子の開発},
 year = {2021}
}