{"created":"2023-05-15T15:00:51.899637+00:00","id":82564,"links":{},"metadata":{"_buckets":{"deposit":"67c49853-f2cc-4542-9491-397bc56bf7e5"},"_deposit":{"created_by":1,"id":"82564","owners":[1],"pid":{"revision_id":0,"type":"depid","value":"82564"},"status":"published"},"_oai":{"id":"oai:repo.qst.go.jp:00082564","sets":["10:28"]},"author_link":["943220","943223","943219","943218","943221","943222","943225","943224"],"item_10005_date_7":{"attribute_name":"発表年月日","attribute_value_mlt":[{"subitem_date_issued_datetime":"2021-03-28","subitem_date_issued_type":"Issued"}]},"item_10005_description_5":{"attribute_name":"抄録","attribute_value_mlt":[{"subitem_description":"放射線によって水中に生成するヒドロキシルラジカルは（•OH）2種の異なる局所濃度で生成しており、それらはmMレベルの比較的疎な生成とMレベルの極めて密な生成であることがEPRスピントラッピング法により測定され報告されている。疎な生成の密度は、142 μm-1と測定することができ、これを分子間距離に換算すると7 nmで、また濃度に換算すると4.8 mM程度であった。しかしながら極めて密な生成については、密度が1000 μm-1以上であり、1 nm以下の距離間隔で生成しているだろうことは推測できるものの、高濃度領域での定量測定が困難であったことから具体的な測定値が得られていなかった。本研究では、得られた積分型EPRスペクトルのベースライン補正を施すことにより高濃度領域での定量性の向上を図り、極めて密な•OH生成密度の具体的な数値化を試みた。これまでと同様の比較的低濃度のDMPO水溶液の濃度系列（0.13 mM-2.3 M）および高濃度のDMPO水溶液の濃度系列（1.6 M-8.8 M）にX線を照射し、試料溶液中に生じるDMPO-OHの濃度をDMPOの密度に対してプロットした。密度は、ある濃度のDMPOの分子間距離の逆数で、単位距離当たりDMPO分子数を意味する。比較的低濃度の濃度系列での結果をプロットすると、これまで得られているように3相の曲線が得られた。更に高濃度のDMPOの濃度系列の測定結果を重ねてプロットすると、4相目を確認することができた。3相目と4相目の変曲点の数値から、極めて密な•OH生成の密度は1184 μm-1と測定することができ、これを分子間距離に換算すると0.84 nm、濃度に換算すると2.8 M程度と評価できた。また•OHの生成密度は試料中の酸素濃度に影響されなかった。","subitem_description_type":"Abstract"}]},"item_10005_description_6":{"attribute_name":"会議概要（会議名, 開催地, 会期, 主催者等）","attribute_value_mlt":[{"subitem_description":"日本薬学会第141年会","subitem_description_type":"Other"}]},"item_access_right":{"attribute_name":"アクセス権","attribute_value_mlt":[{"subitem_access_right":"metadata only access","subitem_access_right_uri":"http://purl.org/coar/access_right/c_14cb"}]},"item_creator":{"attribute_name":"著者","attribute_type":"creator","attribute_value_mlt":[{"creatorNames":[{"creatorName":"松本, 謙一郎"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"943218","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"上野, 恵美"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"943219","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"荘司, 好美"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"943220","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"中西, 郁夫"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"943221","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"Kenichiro, Matsumoto","creatorNameLang":"en"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"943222","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"Megumi, Ueno","creatorNameLang":"en"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"943223","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"Yoshimi, Shoji","creatorNameLang":"en"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"943224","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]},{"creatorNames":[{"creatorName":"Ikuo, Nakanishi","creatorNameLang":"en"}],"nameIdentifiers":[{"nameIdentifier":"943225","nameIdentifierScheme":"WEKO"}]}]},"item_language":{"attribute_name":"言語","attribute_value_mlt":[{"subitem_language":"jpn"}]},"item_resource_type":{"attribute_name":"資源タイプ","attribute_value_mlt":[{"resourcetype":"conference object","resourceuri":"http://purl.org/coar/resource_type/c_c94f"}]},"item_title":"X線により水中に局在して生成するヒドロキシルラジカルの局所濃度の測定","item_titles":{"attribute_name":"タイトル","attribute_value_mlt":[{"subitem_title":"X線により水中に局在して生成するヒドロキシルラジカルの局所濃度の測定"},{"subitem_title":"Two different local concentrations of X-ray induced hydroxyl radical generations in water","subitem_title_language":"en"}]},"item_type_id":"10005","owner":"1","path":["28"],"pubdate":{"attribute_name":"公開日","attribute_value":"2021-03-26"},"publish_date":"2021-03-26","publish_status":"0","recid":"82564","relation_version_is_last":true,"title":["X線により水中に局在して生成するヒドロキシルラジカルの局所濃度の測定"],"weko_creator_id":"1","weko_shared_id":-1},"updated":"2023-05-15T20:18:39.304745+00:00"}