@misc{oai:repo.qst.go.jp:00082135,
 author = {長谷川, 伸 and 廣木, 章博 and 吉村, 公男 and ザオ, ユエ and 町田, 晃彦 and 大和田, 謙二 and 前川, 康成 and Shin, Hasegawa and Akihiro, Hiroki and Kimio, Yoshimura and Zhao, Yue and Akihiko, Machida and Kenji, Ohwada and Yasunari, Maekawa},
 month = {Sep},
 note = {放射線グラフト重合を利用した機能性高分子膜の作製では、基材の物性・形状を保ちながら新たな機能を付与できるため、耐熱性および機械特性に優れたポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等の芳香族炭化水素高分子が有力な基材候補として挙げられる。一方、芳香族炭化水素高分子は、その優れた耐薬品性により、機能性モノマーの拡散が遅く、グラフト重合の進行が困難な場合が多い。これまで、結晶化度11%の低結晶性PEEK（lPEEK）基材へのスチレンスルホン酸エチルエステル（ETSS）モノマーのグラフト重合について、結晶化度25％以下では反応が進行する一方、それ以上の結晶化度では、14 nm周期のラメラ構造の形成により、重合反応が阻害されることを報告してきた。また、l-PEEK基材を2官能性モノマーであるジビニルベンゼン（DVB）のジオキサン（DOX）溶液中で熱処理することで、ETSSのグラフト重合速度が約4倍になることが見出されている。今回、溶媒処理のグラフト重合促進効果について、既に報告した熱処理と同様にPEEK基材の結晶モルフォロジーがその重合性に影響している可能性が高いことから、溶媒処理およびグラフト重合による結晶性やラメラ構造の変化を解析した。, 第69回高分子討論会},
 title = {溶媒アニールによるポリエーテルエーテルケトン膜のモルフォロジー制御と 放射線グラフト重合反応加速機構},
 year = {2020}
}