@misc{oai:repo.qst.go.jp:00082133,
 author = {森林, 健悟 and Kengo, Moribayashi},
 month = {Mar},
 note = {重イオンビームが物質に照射されると衝突電離により入射イオンの軌道上に多くの分子イオンと二次電子が発生する。ここで発生した分子イオンは強い電場が作るが、この電場に遅い二次電子は捕獲され、分子イオンの周りに集まる。これらの電子は分子イオンの電場を遮蔽する。この遮蔽のことをデバイ遮蔽という。本講演では、このデバイ遮蔽がいつ、どこで、どのように形成されるかを理論とシミュレーションから議論する。この議論は動径線量分布のコア領域の形成過程に繋がる。, 日本物理学会 第76回年次大会},
 title = {重イオンビーム照射におけるデバイ遮蔽の生成過程},
 year = {2021}
}