@misc{oai:repo.qst.go.jp:00081824,
 author = {羽多野, 忠 and 小池, 雅人 and ピロジコフ, アレキサンダー and 垣尾, 翼 and 林, 信和 and 笹井, 浩行 and 長野, 哲也 and 寺内, 正己 and Masato, Koike and Pirozhkov, Alexander},
 month = {Mar},
 note = {電子顕微鏡搭載用小型軟Ｘ線発光分光計の波長分解能向上、および軟Ｘ線回折格子分光器の高エネルギー化のために 3000 本/mm 以上の高刻線密度軟Ｘ線回折格子の開発が必要とされている。しかしながら、一般的には刻線密度が高くなるほど格子溝形状の製作精度が回折効率に与える影響が大きくなることから、現状では刻線密度が 2400 本/mm までの回折格子が多く利用される。我々は今回刻線密度 3200 本/mm のラミナー型回折格子を試作して性能評価を行った。基板には 1 nm rms 以下の面粗さを伴う通常研磨の BK7 平面基板を用いた。製作した回折格子の AFM 観察により得られた溝深さ、デューティー比はそれぞれ 5.77nm、0.53 であった。Au を 30 nm  の厚さでコートして Photon Factory の BL-11D で回折効率を測定した。入射角 86° および 87.95° の配置で、それぞれ 0.5–1.2 keV および 1.1–1.56 keV の領域で測定した。ビームライン分光器出力に含まれる EUV 成分の影響で 、0.6 keV 以下では下方に、1.1 keV 以上では上方にそれぞれ測定誤差が発生している。入射角 87.95° の測定ではアルミ箔フィルターで EUV 光を除去した。数値計算で測定結果を再現するには面粗さを 0.6 nm rms と仮定すればよく、刻線プロセスに問題がないことがわかった。今後、基板面粗さの低減、多層膜コート、異なるエネルギー領域での溝形状最適化等により性能向上と仕様拡張を図る, 2021年第68回応用物理学会春季講演会},
 title = {刻線密度3200本/mmの軟Ｘ線ラミナー型回折格子の製作と評価},
 year = {2021}
}