@misc{oai:repo.qst.go.jp:00081346,
 author = {森林, 健悟 and Moribayashi, Kengo},
 month = {Dec},
 note = {重イオンビームが物質に照射されるとイオン衝突電離により入射イオンの軌道上に多くの分子イオンと二次電子が発生する。これらのイオン、電子の発生には原子分子データが必要であり、その最新のデータを紹介する。また、ここで発生した分子イオンは強い電場が作るが、この電場は遅い二次電子は捕獲し、プラズマを形成する。二次電子がこの電場から脱出する確率(P)を理論(ポアソン方程式)、シミュレーション両面から議論する。さらに、捕獲された二次電子がこれらの電子は分子イオンの電場を遮蔽する(デバイ遮蔽)。このデバイ遮蔽がいつ、どこで、どのように形成されるかをPから解析する。, 「プラズマ分光計測と原子分子素過程研究の融合最前線」 「原子分子データ応用フォーラムセミナー」合同研究会},
 title = {重イオンビーム科学に関連する原子分子データとプラズマ物理},
 year = {2020}
}