@misc{oai:repo.qst.go.jp:00081270,
 author = {森林, 健悟 and Moribayashi, Kengo},
 month = {Dec},
 note = {重粒子線が照射されるとイオン衝突電離により入射イオンの軌道上に多くの分子イオンと二次電子が発生する。この発生に必要な原子分子物理を解説する。また、ここで発生した分子イオンは強い電場が作るが、この電場は遅い二次電子は捕獲し、プラズマを形成する。二次電子がこの電場から脱出する確率(P)をプラズマ理論で重要なポアソン方程式、シミュレーション両面から議論する。さらに、捕獲された二次電子がこれらの電子は分子イオンの電場を遮蔽する(デバイ遮蔽)。このデバイ遮蔽がいつ、どこで、どのように形成されるかをPから解析する。, 第45回原子衝突学会年会},
 title = {重粒子線がん治療における原子分子・プラズマ物理の役割},
 year = {2020}
}