@misc{oai:repo.qst.go.jp:00080992,
 author = {藤永, 雅之 and 小川, 政直 and 念垣, 信樹 and 熊田, 勝志 and 森, 若菜 and 張, 明栄 and Fujinaga, Masayuki and Ogawa, Masanao and Nengaki, Nobuki and Kumata, Katsushi and Mori, Wakana and Ming-Rong, Zhang},
 month = {Nov},
 note = {近年、Pikeらのグループは、11CH4を加熱下、CoF3カラムに通すことで生成される11C-CHF3を用い、比放射能の高い11C-トリフルオロメチル化体の合成に成功している。しかしながら、これまでに完全自動合成による11C-トリフルオロメチル化は報告されていない。本研究では、11C-トリフルオロメチル化反応を完全自動合成化するために合成法を確立することを目的とした。11CHF3の生成を確認するため、t-BuOK存在下、ベンゾフェノンへの付加体の生成によって確認することとした。まず、11CH4から11CHF3の変換時に重要なCoF3カラムの加熱温度を検討した結果、加熱温度は350℃が最適であった。また、生成した11CHF3ガスに含まれるHFの除去に従来の極低温冷バス(-40℃)を用いた場合、HFの除去が不十分で、11CHF3の反応溶媒中への捕集がほとんどできなかった。そこで様々な方法を検討した結果、シリカのSep-Pakカラムに通すことでHFのみを除去し、11CHF3を反応溶媒中へ捕集可能となった。その結果、目的の付加体を6%(EOS)、合成時間40分で完全自動合成にて得ることに成功した。, 第60回日本核医学会学術総会},
 title = {11C-フルオロホルムを用いた11C-トリフルオロメチル化反応の完全自動合成},
 year = {2020}
}