@misc{oai:repo.qst.go.jp:00079289,
 author = {山中, 健太 and 山口, 憲司 and Yamanaka, Kenta and Yamaguchi, Kenji},
 month = {Mar},
 note = {我々は以前テンプ レート層の材料として MgO を用いて Si 基板上に Fe3O4の薄膜を作製したが、MgO 膜の作製温度が常温付近に限定され、高い結晶性の膜を得るに至っていない。この問題点を克服するため、高温でも安定であり、Si との反応性が低い物質をテンプレート層に採用することを検討した。その候補として、我々はAl2O3に着目し、テンプレート層としての適性を実験結果とともに検討、考察する。, 第67回応用物理学会春季学術講演会},
 title = {テンプレート層を用いたSi基板上への鉄酸化物膜の作製},
 year = {2020}
}