@article{oai:repo.qst.go.jp:00079161,
 author = {Chiba, Atsuya and Usui, Aya and Hirano, Yoshimi and Yamada, Keisuke and Narumi, Kazumasa and Saito, Yuuichi and Atsuya, Chiba and Yoshimi, Hirano and Keisuke, Yamada and Kazumasa, Narumi and Yuuichi, Saito},
 issue = {1},
 journal = {Quantum Beam Science},
 month = {Mar},
 note = {タンデム加速器によるMeVエネルギーのC60イオンビームの高強度化を目指し、高崎量子応用研究所放射線高度利用施設（TIARA)において革新的なC60負イオン生成法を開発した。本生成法により、従来のセシウムスパッター方式による生成法に比べ数万倍、1.3µAのC60負イオンビームの生成に成功した。この高強度ビームは、タンデム加速器において広く用いられる既存のイオン源に電子付着に基づくイオン化機構を一時的に付加することで得られる。そのため、TIARAと同様なタンデム加速器とイオン源を有する加速器施設において、イオン源の増設や置き換えをすることなく、比較的容易にMeV級の高強度C60イオンビームを利用することができる。},
 title = {Novel Approaches for Intensifying Negative C60 Ion Beams Using Conventional Ion Sources Installed on a Tandem Accelerator},
 volume = {4},
 year = {2020}
}