@misc{oai:repo.qst.go.jp:00079090,
 author = {金久, 京太郎 and 立石, 哲也 and 薗田, 隆弘 and 齋藤, 悠太 and 中村, 洸介 and 川勝, 一斗 and 畑, 雄貴 and 永岡, 希朗 and 石井, 邑 and 谷井, 孝至 and 小野田, 忍 and Stacey, Alastair and 磯谷, 順一 and 河野, 省三 and 川原田, 洋 and Onoda, Shinobu},
 month = {Mar},
 note = {NVアンサンブルの量子プロセッサ応用には、NVアンサンブルを2次元に配列することが不可欠である。ゆえに、我々はダイヤモンド表面の窒素終端を起源とする2次元NVアンサンブルを作製した。[111]高配向の実現には、窒素ラジカル照射後生じたアミノ基を除去する必要があるため、アニール処理を導入した。その結果、[111]配向したNVアンサンブルの割合が上昇した。また、scaling factorが向上した。, 第67回応用物理学会春季学術講演会},
 title = {2次元NVアンサンブルのスピン特性向上},
 year = {2020}
}