@misc{oai:repo.qst.go.jp:00078194,
 author = {小池, 雅人 and 上野, 良弘 and Koike, Masato},
 month = {Jan},
 note = {最近リン、硫黄のK発光（2.0、2.3 keV）等を用いた細胞の機能解明、次世代光ディスク材料の有力候補とされるアンチモン(Sb)、テルル(Te)のL発光（3.6 keV、3.8 keV）の状態分析など、機能性が高い軽元素に関する数keVの軟X線領域の分光分析を利用した基礎研究、新材料開発研究に注目が集まっている。本研究の目的は、keV領域軟X線回折格子及び同分光器に現在利用できる技術的限界までの回折格子製作技術、多層膜製作技術を用いる場合に実現可能な性能を計算で予測することである。本発表ではその基礎となる溝本数:3200本/mm、溝深さ:2nmのラミナー型回折格子上に硬X線域で広く用いられている所謂スーパーミラー構造のW/C多層膜を積層した回折格子を設計した。発表では各種の分光器に応用する場合を仮定した数値計算による回折効率評価についても述べる。, 第33回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム},
 title = {keV領域高回折効率高分解能 軟X線回折格子分光器の設計},
 year = {2020}
}