@misc{oai:repo.qst.go.jp:00076828,
 author = {鳴海, 一雅 and 山田, 圭介 and 千葉, 敦也 and 平野, 貴美 and 齋藤, 勇一 and Narumi, Kazumasa and Yamada, Keisuke and Chiba, Atsuya and Hirano, Yoshimi and Saito, Yuuichi},
 month = {Sep},
 note = {本研究では、C60イオンビームの物質・材料科学、高感度分析技術等への応用を視野に入れ、応用面で重要なスパッタリングに着目し、スパッタリング収量を系統的に測定することを目的とする。今回は30 keV～9 MeVのエネルギー範囲で金標的のスパッタリング収量を測定した。測定には水晶振動子微量天秤法を用い、水晶振動子の電極用に蒸着されている金薄膜をそのまま金標的とした。30 keV～1080 keVのC60イオンビームはTIARAのイオン注入装置から、1.08 MeV～9 MeVのC60イオンビームは同タンデム加速器からのビームを利用した。講演では結果を報告するとともに、SRIMコードによるシミュレーションから求めた同じ速度のCイオン衝撃によるスパッタリング収量との比較を行い、さらに以前測定したSi標的のスパッタリング収量とも比較し、議論した。, 日本物理学会2019年秋季大会},
 title = {C60イオン衝撃による金のスパッタリング収量の測定},
 year = {2019}
}