@misc{oai:repo.qst.go.jp:00076698,
 author = {Ishii, Yasuyuki and Okubo, Takeru and Kashiwagi, Hirotsugu and Yoshinobu, Miyake(㈱ビーム精工) and Ishii, Yasuyuki and Okubo, Takeru and Kashiwagi, Hirotsugu},
 month = {Sep},
 note = {本研究では、イオンマイクロビームの産業利用を目指して開発中の小型イオンマイクロビーム装置の要素技術として、小型・小電力な電磁石型PIGイオン源（emPIGイオン源）を開発している。このイオン源は、マイクロビーム形成に必要な低エネルギー、高輝度及び小エネルギー幅のイオンビームを発生するため、微小体積の高密度プラズマからイオンビームを引き出す方式である。これまでに、emPIGイオン源から300eV程度で高輝度な水素イオンビームが発生できることを実験的に示した。今回、もう一つの重要なビーム条件である小エネルギー幅のビームを発生するため、イオン源の引き出し電圧、水素ガス圧及び磁場強度を変えてエネルギー幅を静電並行平板型のエネルギー分析器により測定した。この結果、300eV程度の水素イオンビームで、6eV程度の最低エネルギー幅が得られ、ほぼ目標値を達成することができた。, The 17th International Conference on Ion Sources},
 title = {Measurement of Hydrogen Ion Beam Energy Spreads Generated by a Penning-Ionization-Gauge Type Ion Source with Electric Magnets for a MeV Compact Ion Microbeam System},
 year = {2019}
}