@misc{oai:repo.qst.go.jp:00076382,
 author = {神門, 正城 and 黄, 開 and Neagu, Liviu and Nakamiya, Yoshihide and Secareanu, Radu and Rotaru, Florin and Cuciuc, Mihai and Matei, Dan and ピロジコフ, アレキサンダー and ビアワーゲ, アンドレアス and 小倉, 浩一 and 匂坂, 明人 and 桐山, 博光 and 中新, 信彦 and Kando, Masaki and HUANG, KAI and Pirozhkov, Alexander and Bierwage, Andreas and Ogura, Koichi and Sagisaka, Akito and Kiriyama, Hiromitsu and Nakanii, Nobuhiko},
 month = {Aug},
 note = {高強度・極短パルスレーザー電子加速の実験結果を報告する。我々は、関西研にある200 TW, 40 fsレーザーをf/10の光学系を用いて純ヘリウムまたはヘリウムに窒素ガス、ネオンガスを混ぜた混合ガスを用いてイオン化入射法の試験を行った。その結果、窒素ガスを用いた場合には、100 pCを超える大電荷量の数百MeV準単色電子ビームを観測し、ネオンガスを用いた場合には低発散角のビームを観測した。これらは、ガスのイオン化強度に依存した電子入射領域の体積と入射タイミングが影響していると考えられ、ガス種による電子加速の制御が行えることを示唆している。, 第16回日本加速器学会年会},
 title = {イオン化入射法による高電荷量レーザー電子加速},
 year = {2019}
}