@misc{oai:repo.qst.go.jp:00074685,
 author = {阿部, 浩之 and 青根, 茂雄 and 森本, 亮 and 内田, 裕久 and Abe, Hiroshi},
 month = {Mar},
 note = {水素吸蔵材料表面において、真空中や大気中では表面酸化被膜や水素化被膜が形成されやすく、前者では水素分子の解離が著しく阻害され、後者では水分子における解離が阻害される。これら阻害因子によって水素吸蔵反応速度が低下することが知られており、水素吸蔵材料においては表面状態が非常に重要な要素となってくる。そこで表面改質処理としてイオン照射とアルカリ処理を用い、それが材料の初期水素吸蔵反応速度に及ぼす影響とそれら相乗効果について調べた。その結果、LaイオンとCeイオン照射とその後の化学処理によって反応速度がいずれも300倍以上速くなる結果が得られた。希土類イオンにおいては表面活性化された合金表面に形成された酸化被膜中に媒質としてもちいたKOHのカリウム原子が侵入しこれが水素の解離を促すことになり反応が促進されたと考えられる。ある定量を超える照射を施した希土類イオンと化学処理を組み合わせることが、従来よりもはるかに高い吸蔵能を示し、相乗効果が発揮されることがわかった。, 第66回応用物理学会春季学術講演会参加の為},
 title = {水素吸蔵材料高機能化に向けた重イオン照射と表面化学処理の相乗効果},
 year = {2019}
}