@misc{oai:repo.qst.go.jp:00072970,
 author = {藤井, 健太郎 and 横谷, 明徳 and Hervé, du Penhoat Marie Anne（ピエールマリーキュリー大学） and Politis, Marie Françoise（エソンヌ大学） and 藤井 健太郎 and 横谷 明徳},
 month = {Sep},
 note = {本研究では，電離放射線のエネルギー付与直後に起こる初期過程を明らかにすることを目的として，放射光を用いた特定元素のイオン化後のフラグメントイオンの質量分析やX線吸収分光実験を行った．DNA鎖の一部を構成する糖部位（デオキシリボース：dR）の薄膜上に水分子の層を吸着させた試料薄膜に対して酸素K殻イオン化閾値以上のエネルギーを持つ軟X線(560 eV)を照射し，照射中に表面から脱離するイオンの質量分析の結果から分解過程を推察した．その結果イオン化直後の10 fsという早い時間に，dR分子から水和水分子へプロトン移動が起こることによってH3O+が生成することが予想された．さらに，イオン脱離観測前後のX線吸収スペクトルの変化から，乾燥dR薄膜への軟X線照射では，フラノース五員環の分解に由来したC-O結合の切断が観測されたが，水和dR薄膜では，その変化は大幅に抑えられる一方，新たにカルボキシル基の生成に由来したスペクトルの変化が見られた．これらのことから，水和水分子は電離放射線の直接効果によってdR部位が修復困難な構造になることを抑える働きを持つと推察した．, 第12回分子化学討論会2018福岡},
 title = {酸素K殻イオン化によって起こるデオキシリボースの分解過程},
 year = {2018}
}