@misc{oai:repo.qst.go.jp:00072909,
 author = {澤田, 純平(京都大学) and 石井, 洋晶(京都大学) and 中嶋, 薫(京都大学) and 木村, 健二(京都大学) and 千葉, 敦也 and 山田, 圭介 and 平野, 貴美 and 鳴海, 一雅 and 齋藤, 勇一 and 千葉 敦也 and 山田 圭介 and 平野 貴美 and 鳴海 一雅 and 齋藤 勇一},
 month = {Aug},
 note = {二次イオン質量分析法(SIMS)の生体試料への適用においては、一次イオンにクラスターイオンを用いることで無傷の分子イオン収率が増大することが知られている。しかし、生体分子に対する感度の定量評価には、二次イオン収率だけでなく分子のスパッタリング収率も知る必要がある。そこで現在開発を進めているMeV級C60+イオンを用いた透過型SIMSにおいて、フェニルアラニンの薄膜試料に対するスパッタリング収率について、特に表側照射・裏側照射による違いと試料膜厚に対する依存性に注目して系統的な測定を行った。表側照射・裏側照射を比較した結果、後者の方が低いスパッタリング収率を示した。この結果は薄膜試料透過の際にクラスターイオンが解離し、エネルギー付与密度が低下することによると考えられる。しかし、この考察から得られる予想に反して、裏側照射での積算イオン照射量に対するスパッタリング収率の依存性は、照射量が少ない(膜が厚い)方が大きなスパッタリング収率を示した。照射量が大きくなるとスパッタリング収率が低下した原因として、照射の初期においてフェニルアラニンの脱水などによる組成変化や、分子の分解にともなう結合の組み換えなどが起こっている可能性がある。, 第13回 先進原子力科学技術に関する連携重点研究討論会および原⼦⼒機構・量研施設利⽤共同研究、弥⽣研究会成果報告会},
 title = {高速C60+イオン照射による生体分子のスパッタリング収率の測定},
 year = {2018}
}