@misc{oai:repo.qst.go.jp:00072783,
 author = {中西, 郁夫 and 大久保, 敬 and 今井, 耕平 and 松本, 謙一郎 and 小澤, 俊彦 and 濱田, 博喜 and 福原, 潔 and 中西 郁夫 and 大久保 敬 and 今井 耕平 and 松本 謙一郎 and 小澤 俊彦},
 month = {May},
 note = {フラボノイド系抗酸化物質は非常に優れたラジカル消去活性を示すが、構造活性相関には不明な点が多く残されている。本研究では、フラボノイド系抗酸化物質のラジカル消去活性に関わる熱力学パラメーター(OH結合解離エネルギー(D(HT))およびイオン化エネルギー(IP)、脱プロトン化エネルギー(D(HT) – IP))を密度汎関数法により計算し、アセトニトリル中におけるガルビノキシルラジカル消去の二次反応速度定数(k)との相関性について検討した。その結果、いくつかのフラボノイドについてk値の対数(log k)とIP値の間に良好な相関性が観測され、フラボノイドからラジカルへの電子移動が律速となってラジカル消去反応が進行していることが示唆された。, 量子生命科学研究会第2回学術集会},
 title = {フラボノイド系抗酸化物質のラジカル消去活性と量子化学計算による熱力学的パラメーターとの相関},
 year = {2018}
}