@misc{oai:repo.qst.go.jp:00072308,
 author = {木村壮宏 and 池田歩 and 野村幹弘 and 西嶋陽之 and 今林慎一郎 and 澤田, 真一 and 八巻, 徹也 and 田中伸幸 and 久保真治 and 澤田 真一 and 八巻 徹也},
 month = {Mar},
 note = {熱化学ISプロセスは、ヨウ素(I)と硫黄(S)の化合物を用いて水を熱分解し水素を製造する方法である。ISプロセスの一工程として、陽イオン交換膜を備えた電解セルにより、ヨウ素と二酸化硫黄から硫酸とヨウ化水素を生成する膜ブンゼン反応がある。本研究では、放射線グラフト法により陽イオン交換膜を作製し、その膜ブンゼン反応への適用可能性を探るため、高濃度硫酸中での耐久性を評価した。得られた陽イオン交換膜を室温で90%硫酸に浸漬し、浸漬後のイオン交換容量(IEC)の減少率を求めた。IEC減少率は、浸漬時間とともに大きくなり、1000時間後で約5%に達した。グラフト鎖中の一部のスルホン酸基が脱離したと考えられる。このことから、膜劣化を抑制するために、分子構造の最適化が必要であることが明らかとなった。, 化学工学会 第82年会},
 title = {水素製造ISプロセス中酸化還元反応用イオン交換膜の開発},
 year = {2017}
}