@misc{oai:repo.qst.go.jp:00072253,
 author = {石坂, 知久 and 百合, 庸介 and 上松, 敬 and 清藤, 一 and 湯山, 貴裕 and 奥村, 進 and 石坂 知久 and 百合 庸介 and 上松 敬 and 清藤 一 and 湯山 貴裕 and 奥村 進},
 month = {Nov},
 note = {X線やガンマ線などの線量分布測定に使用されているガフクロミックフィルムは、フラットベッドスキャナでの測定が可能で、イオンビームの強度分布測定にも応用されている。高線量用モデルHD-V2は、感受層が薄く、表面保護層がないため、飛程が短いイオンビームにも使用可能である。しかし、線量応答特性は非線形であり、線質の違いよる特性が不明なため、イオン種やエネルギー毎に応答曲線を取得する必要があった。我々は実際に取得したイオンビームの応答曲線がガンマ線の線量応答曲線に類似していることに着目し、各種イオンビームでの応答曲線を取得することなく、ガンマ線の応答曲線を用いることでイオンビームの相対強度分布が得られることを確認した。H 10MeVや、Ar 520MeVイオンビームをガンマ線の応答曲線とフィッティングさせた結果、測定データRGB色成分の内、赤(R)色成分で0.7程度までの吸光度の範囲で応答曲線が互いに一致することを確認し、本手法が有効であることを示した。, 第16回放射線プロセスシンポジウム},
 title = {ガフクロミックフィルムを用いたイオンビーム強度分布測定法},
 year = {2016}
}