@misc{oai:repo.qst.go.jp:00072075,
 author = {石野, 雅彦 and 錦野, 将元 and 石野 雅彦 and 錦野 将元},
 month = {Nov},
 note = {極端紫外線（EUV）リソグラフィ装置で用いる多層膜反射鏡の高強度EUV照射に対する耐性評価を目的とした照射損傷試験を行った。EUVレーザーを多層膜試料に照射し、損傷構造が確認できる最小のフルーエンスから照射に対する耐性を評価した。その結果、Nb/Si多層膜が従来のMo/Si多層膜に比べて高い照射耐性を有することを見出した。, 光・量子ビーム科学合同シンポジウム},
 title = {EUVレーザーによる多層膜反射鏡の照射損傷評価},
 year = {2016}
}