@misc{oai:repo.qst.go.jp:00072041, author = {長澤, 尚胤 and 木村, 敦 and 出崎, 亮 and 山田, 尚人 and 江夏, 昌史 and 佐藤, 隆博 and 石井, 保行 and 田口, 光正 and 長澤 尚胤 and 木村 敦 and 出崎 亮 and 山田 尚人 and 佐藤 隆博 and 石井 保行 and 田口 光正}, month = {Sep}, note = {再生医療では、細胞が増殖し、臓器形状を保持する足場材料として、ハイドロゲルの利用が注目されている。細胞培養に影響を与えるゲル表面の微細な形状や化学的な特性を調べるために、人体に無害である水溶性高分子材料を原料として、プロトンビームによる分解・架橋反応を利用したゲル微細加工技術の開発を行った。ヒドロキシプロピルセルロース(HPC) 、カルボキシメチルセルロース(CMC)、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルアルコールを濃厚水溶液(20~40wt%) を調製し、TIARA のシングルエンド加速器からの2.5MeVまたは3MeVのプロトンビームを照射した。含水試験やゲル分率測定などから、ゲル構造体が形成していることを確認した。プロトンビームのスキャン形状を制御することにより、ラインアンドスペース等のゲル構造体を作製できる見通しを得た。, 第59回放射線化学討論会}, title = {プロトンビームライティング法による高分子ヒドロゲルの微細加工}, year = {2016} }