@misc{oai:repo.qst.go.jp:00071985,
 author = {西森, 信行 and 永井, 良治 and 沢村, 勝 and 羽島, 良一 and 永井 良治 and 沢村 勝 and 羽島 良一},
 month = {Aug},
 note = {次世代ERL放射光源やテラヘルツスミスパーセル放射光源開発のため 50mAビーム生成を目指した250kV光陰極電子銃を開発している。最初に 鍵となるのは安定な高電圧印加と高量子効率光陰極の成膜である。 高電圧については暗電流を抑制するようにデザインしたカソード電極 をインストールし、230kVまでの高電圧印加と210kVでの長時間保持に 成功した。成膜についてはCs3Sbカソードの成膜を行っている。 蒸着条件の最適化により量子効率5.8%@530nmを達成した。 ビーム生成試験は電圧150kVにて最大1.3uAのビームを生成し、 0.18uAで2時間の連続生成を行った。開発状況について発表する。, 第13回日本加速器学会年会},
 title = {アルカリアンチモン光陰極高電圧電子銃からのビーム生成},
 year = {2016}
}